GeSn surface preparation by wet cleaning and in-situ plasma treatments prior to metallization - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2019

GeSn surface preparation by wet cleaning and in-situ plasma treatments prior to metallization

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01947803

Soumis le : vendredi 7 décembre 2018-11:14:30

Dernière modification le : jeudi 18 avril 2024-12:45:09

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Dates et versions

hal-01947803 , version 1 (07-12-2018)

Identifiants

Citer

P.E. Raynal, A. Quintero, V. Loup, Ph. Rodriguez, L. Vallier, et al.. GeSn surface preparation by wet cleaning and in-situ plasma treatments prior to metallization. Microelectronic Engineering, 2019, 203-204, pp.38-43. ⟨10.1016/j.mee.2018.11.005⟩. ⟨hal-01947803⟩

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