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GeSn surface preparation by wet cleaning and in-situ plasma treatments prior to metallization

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01947803
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : vendredi 7 décembre 2018 - 11:14:30
Dernière modification le : mardi 6 octobre 2020 - 16:30:05

Identifiants

  • HAL Id : hal-01947803, version 1

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Citation

P.E. Raynal, A. Quintero, V. Loup, Ph. Rodriguez, L. Vallier, et al.. GeSn surface preparation by wet cleaning and in-situ plasma treatments prior to metallization. Microelectronic Engineering, Elsevier, 2019, 203-204, pp.38-43. ⟨hal-01947803⟩

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