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Optimization of H2 thermal annealing process for the fabrication of ultra-low loss sub-micron silicon-on-insulator rib waveguides

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01942725
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : lundi 3 décembre 2018 - 14:04:21
Dernière modification le : jeudi 30 juillet 2020 - 03:00:42

Identifiants

  • HAL Id : hal-01942725, version 1

Citation

Cyril Bellegarde, Erwine Pargon, Corrado Sciancalepore, Camille Petit-Etienne, Jean-Michel Hartmann, et al.. Optimization of H2 thermal annealing process for the fabrication of ultra-low loss sub-micron silicon-on-insulator rib waveguides. Proc. SPIE 10537, Silicon Photonics XIII, 2018. ⟨hal-01942725⟩

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