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Communication dans un congrès

Study of selective chemical downstream plasma etching of silicon nitride and silicon oxide for advanced patterning applications

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01927695
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mardi 20 novembre 2018 - 09:34:36
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:03:25

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Emilie Prévost, Gilles Cunge, Côme De-Buttet, Sebastien Lagrasta, Laurent Vallier, et al.. Study of selective chemical downstream plasma etching of silicon nitride and silicon oxide for advanced patterning applications. SPIE Advanced Lithography, 2017, San Jose, United States. ⟨10.1117/12.2257927⟩. ⟨hal-01927695⟩

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