Ultra-high selective etching in remote plasmas: application to smart etch processes
G. Cunge.
(1)
,
C Petit−etienne.
(1)
,
L Vallier.
(1)
,
J Dubois.
(1)
,
R Soriano.
(1)
,
E Prevost.
(1)
,
V Martirosyan.
(1)
,
F Chambettaz.
(1)
,
M Bizouerne.
(1)
,
C Bellegarde.
(1)
,
P Raynal.
(1)
,
V Renaud.
(1)
,
E Pargon.
(1)
,
E Despiau−pujo.
(1)
,
J Bisserier.
,
C de Buttet.
,
S Lagrasta.
C Petit−etienne.
- Fonction : Auteur
- PersonId : 745766
- IdHAL : camille-petit-etienne
E Pargon.
- Fonction : Auteur
- PersonId : 180469
- IdHAL : erwine-pargon
- ORCID : 0000-0002-6337-9180
E Despiau−pujo.
- Fonction : Auteur
- PersonId : 754756
- IdHAL : emilie-despiau-pujo
- ORCID : 0000-0002-7761-6343
- IdRef : 142894265
J Bisserier.
- Fonction : Auteur
C de Buttet.
- Fonction : Auteur
S Lagrasta.
- Fonction : Auteur