Accéder directement au contenu Accéder directement à la navigation
Communication dans un congrès

Damage Free Plasma Etching Processes of III-V Semiconductors for Microelectronic and Photonic Applications

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01891260
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mardi 9 octobre 2018 - 14:01:46
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:03:19

Identifiants

  • HAL Id : hal-01891260, version 1

Collections

Citation

E. Pargon, M. Bizouerne, C. Petit-Etienne, L. Vallier, G. Gay, et al.. Damage Free Plasma Etching Processes of III-V Semiconductors for Microelectronic and Photonic Applications. 64th International AVS Symposium & Topical Conferences, Nov 2017, Tampa Floride, United States. ⟨hal-01891260⟩

Partager

Métriques

Consultations de la notice

51