H + ion-induced damage and etching of multilayer graphene in H 2 plasmas - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2017

H + ion-induced damage and etching of multilayer graphene in H 2 plasmas

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Physique [physics]

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hal-01891243 , version 1 (09-10-2018)

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Citer

A. Davydova, E. Despiau-Pujo, G. Cunge, D. Graves. H + ion-induced damage and etching of multilayer graphene in H 2 plasmas. Journal of Applied Physics, 2017, 121 (13), ⟨10.1063/1.4979023⟩. ⟨hal-01891243⟩

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