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H + ion-induced damage and etching of multilayer graphene in H 2 plasmas

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01891243
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mardi 9 octobre 2018 - 13:51:17
Dernière modification le : mardi 6 octobre 2020 - 16:30:05

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A. Davydova, E. Despiau-Pujo, G. Cunge, D. Graves. H + ion-induced damage and etching of multilayer graphene in H 2 plasmas. Journal of Applied Physics, American Institute of Physics, 2017, 121 (13), ⟨10.1063/1.4979023⟩. ⟨hal-01891243⟩

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