Si-containing high- block-copolymers for nanolithography applications - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2016

Si-containing high- block-copolymers for nanolithography applications

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882744

Soumis le : jeudi 27 septembre 2018-13:10:17

Dernière modification le : mardi 3 septembre 2024-11:16:05

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01882744 , version 1 (27-09-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01882744 , version 1

Citer

A. Legrain, C. Girardot, X. Chevalier, C. Navarro, I. Cayrefourcq, et al.. Si-containing high- block-copolymers for nanolithography applications. Directed Self-Assembly Symposium – DSA 2016, Oct 2016, Grenoble, France. ⟨hal-01882744⟩

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