Development of plasma etching processes for the integration of III-V materials on Si for photonic and CMOS applications - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2016

Development of plasma etching processes for the integration of III-V materials on Si for photonic and CMOS applications

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882458

Soumis le : jeudi 27 septembre 2018-09:23:15

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:42:13

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Dates et versions

hal-01882458 , version 1 (27-09-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01882458 , version 1

Citer

E. Pargon, M. Bizouerne, G. Gay, C. Petit-Etienne, P. Burtin, et al.. Development of plasma etching processes for the integration of III-V materials on Si for photonic and CMOS applications. SPIE advanced lithography, Advanced Etch Technology for Nanopatterning V, Conference 9782, Feb 2016, San Jose, United States. ⟨hal-01882458⟩

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