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Communication dans un congrès

Development of plasma etching processes for the integration of III-V materials on Si for photonic and CMOS applications

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882458
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 27 septembre 2018 - 09:23:15
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:03:17

Identifiants

  • HAL Id : hal-01882458, version 1

Collections

Citation

E. Pargon, M. Bizouerne, G. Gay, C. Petit-Etienne, P. Burtin, et al.. Development of plasma etching processes for the integration of III-V materials on Si for photonic and CMOS applications. SPIE advanced lithography, Advanced Etch Technology for Nanopatterning V, Conference 9782, Feb 2016, San Jose, United States. ⟨hal-01882458⟩

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