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Communication dans un congrès

Characterization and Development of High Dose Implanted Resist Stripping Processes

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882454
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 27 septembre 2018 - 09:15:45
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:03:17

Identifiants

  • HAL Id : hal-01882454, version 1

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Citation

M. Croisy, C. Jenny, C. Richard, D. Guiheux, A. Campo, et al.. Characterization and Development of High Dose Implanted Resist Stripping Processes. Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 9th International Workshop, May 2016, Grenoble, France. ⟨hal-01882454⟩

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