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Depth profiling investigation by pARXPS and MEIS of advanced transistor technology gate stack

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882048
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mercredi 26 septembre 2018 - 15:20:02
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:03:17

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L. Fauquier, B. Pelissier, D. Jalabert, F. Pierre, R. Gassilloud, et al.. Depth profiling investigation by pARXPS and MEIS of advanced transistor technology gate stack. Microelectronic Engineering, Elsevier, 2017, 169, pp.24 - 28. ⟨10.1016/j.mee.2016.11.018⟩. ⟨hal-01882048⟩

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