Soft graphoepitaxy for large area directed self-assembly of polystyrene-block-poly(dimethylsiloxane) block copolymer on nanopatterned POSS substrates fabricated by nanoimprint lithography

D. Borah; S. Rasappa; M. Salaün; M. Zelsmann; O. Lorret; G. Liontos; K. Ntetsikas; A. Avgeropoulos; M.L A. Morris

doi:10.1002/adfm.201500100

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Soft graphoepitaxy for large area directed self-assembly of polystyrene-block-poly(dimethylsiloxane) block copolymer on nanopatterned POSS substrates fabricated by nanoimprint lithography

D. Borah S. Rasappa M. Salaün ^{1, 2} M. Zelsmann ² O. Lorret G. Liontos K. Ntetsikas A. Avgeropoulos M.L A. Morris

1 OPTIMA - Optique et Matériaux

NEEL - Institut Néel

2 LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique

Type de document :

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Domaine :

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01869187
Contributeur : Marielle Clot Connectez-vous pour contacter le contributeur
Soumis le : jeudi 6 septembre 2018 - 12:29:46
Dernière modification le : mardi 4 janvier 2022 - 10:30:31

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