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Article dans une revue
Soft graphoepitaxy for large area directed self-assembly of polystyrene-block-poly(dimethylsiloxane) block copolymer on nanopatterned POSS substrates fabricated by nanoimprint lithography
D. Borah
S. Rasappa
M. Salaün
M. Zelsmann
1
O. Lorret
G. Liontos
K. Ntetsikas
A. Avgeropoulos
M.L A. Morris
D. Borah
Auteur
S. Rasappa
Auteur
M. Salaün
Auteur IdHAL : mathieu-salaun ORCID : https://orcid.org/0000-0002-1513-9000
M. Zelsmann 1
Auteur
M.L A. Morris
Auteur
1
LTM [2001-2015] - Laboratoire des technologies de la microélectronique [2001-2015] (LETI/DTS 17 rue des martyrs 38054 GRENOBLE CEDEX 9 - France)
- CEA - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (Centre de Saclay Centre de Grenoble Centre de Cadarache etc - France)
- UJF - Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (BP 53 - 38041 Grenoble Cedex 9 - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR5129 (France)
Type de document :
Article dans une revue
Domaine :
Liste complète des métadonnées
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01869187
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 6 septembre 2018 - 12:29:46
Dernière modification le : mercredi 9 septembre 2020 - 17:06:03
Contributeur : Marielle Clot <>
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Dernière modification le : mercredi 9 septembre 2020 - 17:06:03
Identifiants
- HAL Id : hal-01869187, version 1
Collections
UGA | CNRS | LTM | MICRO-NANOTECHNOLOGIES-FOR-HEALTH | CEA
Citation
D. Borah, S. Rasappa, M. Salaün, M. Zelsmann, O. Lorret, et al.. Soft graphoepitaxy for large area directed self-assembly of polystyrene-block-poly(dimethylsiloxane) block copolymer on nanopatterned POSS substrates fabricated by nanoimprint lithography. Advanced Functional Materials, Wiley, 2015, 25, pp.3425. ⟨hal-01869187⟩
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