Soft graphoepitaxy for large area directed self-assembly of polystyrene-block-poly(dimethylsiloxane) block copolymer on nanopatterned POSS substrates fabricated by nanoimprint lithography - Université Grenoble Alpes
Article Dans Une Revue Advanced Functional Materials Année : 2015

Soft graphoepitaxy for large area directed self-assembly of polystyrene-block-poly(dimethylsiloxane) block copolymer on nanopatterned POSS substrates fabricated by nanoimprint lithography

D. Borah
  • Fonction : Auteur
S. Rasappa
  • Fonction : Auteur
M. Salaün
Optique et Matériaux
Laboratoire des technologies de la microélectronique
CV
M. Zelsmann
Laboratoire des technologies de la microélectronique
O. Lorret
  • Fonction : Auteur
G. Liontos
  • Fonction : Auteur
K. Ntetsikas
  • Fonction : Auteur
A. Avgeropoulos
  • Fonction : Auteur
M.L A. Morris
  • Fonction : Auteur

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01869187

Soumis le : jeudi 6 septembre 2018-12:29:46

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Dates et versions

hal-01869187 , version 1 (06-09-2018)

Identifiants

Citer

D. Borah, S. Rasappa, M. Salaün, M. Zelsmann, O. Lorret, et al.. Soft graphoepitaxy for large area directed self-assembly of polystyrene-block-poly(dimethylsiloxane) block copolymer on nanopatterned POSS substrates fabricated by nanoimprint lithography. Advanced Functional Materials, 2015, 25 (22), pp.3425-3432. ⟨10.1002/adfm.201500100⟩. ⟨hal-01869187⟩

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