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Communication dans un congrès

Area Selective Deposition: how plasma can favor the topographically selective deposition on 3D substrate

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

http://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02338940
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mercredi 30 octobre 2019 - 11:02:21
Dernière modification le : vendredi 3 juillet 2020 - 16:45:18

Identifiants

  • HAL Id : hal-02338940, version 1

Collections

CNRS | CEA | INC-CNRS | DRT | LETI | LMGP | LTM | UGA | CEA-GRE

Citation

C. Vallee, M. Bonvalot, R. Gassilloud, V. Pesce, A. Chaker, et al.. Area Selective Deposition: how plasma can favor the topographically selective deposition on 3D substrate. ASD19 – 4th area selective deposition workshop – IMEC, Apr 2019, Leuven (Belgique), Belgium. ⟨hal-02338940⟩

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