TMD film growth studied by quasi-insitu XPS on a 300mm silicon wafer - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

TMD film growth studied by quasi-insitu XPS on a 300mm silicon wafer

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02338914

Soumis le : mercredi 30 octobre 2019-10:57:26

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:53:05

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02338914 , version 1 (30-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02338914 , version 1

Citer

M. Fraccaroli, R. Gassilloud, S. Cadot, B. Pellissier, Christophe Vallee, et al.. TMD film growth studied by quasi-insitu XPS on a 300mm silicon wafer. 18th European Conference on Applications of Surface and Interface Analyses (ECASIA), Sep 2019, Dresde, Germany. ⟨hal-02338914⟩

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