Communication Dans Un Congrès
Année : 2024
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04805223
Soumis le : mardi 26 novembre 2024-15:27:24
Dernière modification le : lundi 9 décembre 2024-03:20:41
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04805223 , version 1
Citer
J. Romero Cedillo, G. Cunge, E. Despiau-Pujo. Elementary surface reactions during F- and CF- based plasma cryoetching of Si and SiO2: a molecular dynamics study. Plasma Etch Strip in Microelectronics (PESM), Jun 2024, Leuven, Belgium. ⟨hal-04805223⟩
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