Multiscale hybrid modelling of resist microlenses etching in DF-CCP CF4 plasmas - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2024

Multiscale hybrid modelling of resist microlenses etching in DF-CCP CF4 plasmas

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04805140

Soumis le : mardi 26 novembre 2024-15:16:41

Dernière modification le : mercredi 27 novembre 2024-08:12:58

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04805140 , version 1 (26-11-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04805140 , version 1

Citer

E Despiau-Pujo, P Ducluzaux, D Ristoiu, G Cunge. Multiscale hybrid modelling of resist microlenses etching in DF-CCP CF4 plasmas. Plasma Etch Strip in Microelectronics (PESM), Jun 2024, Leuven, Belgium. ⟨hal-04805140⟩

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