Nano-lithography with high- block copolymers: interplay between self-organization and dewetting kinetics - Université Grenoble Alpes
Poster De Conférence Année : 2024

Nano-lithography with high- block copolymers: interplay between self-organization and dewetting kinetics

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Sciences du Vivant [q-bio]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04765615

Soumis le : lundi 4 novembre 2024-15:31:26

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:49:51

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04765615 , version 1 (04-11-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04765615 , version 1

Citer

G. Forcina, M. Zelsmann, G. Fleury. Nano-lithography with high- block copolymers: interplay between self-organization and dewetting kinetics. Journées Surfaces et Interfaces – JSI 2024, Jan 2024, Grenoble, France. ⟨hal-04765615⟩

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