Poster De Conférence Année : 2024

Nano-lithography with high-chi block copolymers: inter-relation between self-organization and dewetting kinetics

G. Forcina
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
E. Saad
  • Fonction : Auteur
S. Roland
  • Fonction : Auteur
F. Restagno
  • Fonction : Auteur
B. Cabannes-Boué
  • Fonction : Auteur
G. Fleury
  • Fonction : Auteur
M. Zelsmann
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique

Domaines

Sciences du Vivant [q-bio]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04765520

Soumis le : lundi 4 novembre 2024-15:11:18

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:49:51

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04765520 , version 1 (04-11-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04765520 , version 1

Citer

G. Forcina, E. Saad, S. Roland, F. Restagno, B. Cabannes-Boué, et al.. Nano-lithography with high-chi block copolymers: inter-relation between self-organization and dewetting kinetics. International Conference on Directed Self‐Assembly and Nanostructured Materials – DSA 2024, Oct 2024, Grenoble, France. ⟨hal-04765520⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA UGA CNRS LTM MINASEE PROSPECT
4 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More