Ohmic contact deposition on InGaAs/InP for Si-CMOS compatible HBT fabrication - Université Grenoble Alpes
Poster De Conférence Année : 2024

Ohmic contact deposition on InGaAs/InP for Si-CMOS compatible HBT fabrication

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04760330

Soumis le : mercredi 30 octobre 2024-13:57:09

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:30:09

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04760330 , version 1 (30-10-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04760330 , version 1

Citer

Antoine Lombrez, Nicolas Coudurier, Hervé Boutry, Alexis Divay, Léo Colas, et al.. Ohmic contact deposition on InGaAs/InP for Si-CMOS compatible HBT fabrication. MAM 2024, 2024, MILAN, Italy. ⟨hal-04760330⟩

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