Communication Dans Un Congrès
Année : 2024
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04750028
Soumis le : mercredi 23 octobre 2024-13:10:52
Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-10:01:16
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04750028 , version 1
Citer
S Sales De Mello, L. Jaloustre, S Labau, C Petit-Etienne, G Jacopin, et al.. On the plasma etching mechanisms of high aspect ratio aluminum nitride nanowires patterning. bPlasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 14th International Workshop, Jun 2024, Leuven, Belgium. ⟨hal-04750028⟩
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