Chemical deposition of Cu2O films with ultra-low resistivity: Correlation with the defect landscape - Université Grenoble Alpes

Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Chemical deposition of Cu2O films with ultra-low resistivity: Correlation with the defect landscape

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Abderrahime Sekkat

Fonction : Auteur
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IdHAL : abderrahime-sekkat
ORCID : 0000-0002-8008-3357
IdRef : 259998400

Laboratoire de Génie Chimique

Matthieu Weber

Fonction : Auteur
PersonId : 1224360
IdHAL : matthieuweber
ORCID : 0000-0003-2490-6168

Laboratoire des matériaux et du génie physique

Laetitia Rapenne

Fonction : Auteur
PersonId : 1159475
ORCID : 0000-0003-1896-2315

Laboratoire des matériaux et du génie physique

Daniel Bellet

Fonction : Auteur
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IdHAL : daniel-bellet-grenoble
ORCID : 0000-0002-9929-3696
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Laboratoire des matériaux et du génie physique

David Munoz-Rojas

Fonction : Auteur
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Laboratoire des matériaux et du génie physique

Domaines

Matériaux

Anne-Christine Jacob : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04746668

Soumis le : lundi 21 octobre 2024-15:52:25

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-10:15:41

Dates et versions

hal-04746668 , version 1 (21-10-2024)

Identifiants

HAL Id : hal-04746668 , version 1

Citer

Abderrahime Sekkat, Matthieu Weber, Laetitia Rapenne, Daniel Bellet, David Munoz-Rojas. Chemical deposition of Cu2O films with ultra-low resistivity: Correlation with the defect landscape. EUROCVD/BALTIC ALD, May 2023, Leuven, Belgium. ⟨hal-04746668⟩

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