Atomic layer deposition (ALD) of palladium: from processes to applications - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Critical Reviews in Solid State and Materials Sciences Année : 2023

Atomic layer deposition (ALD) of palladium: from processes to applications

Domaines

Matériaux
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04597144 , version 1 (01-06-2024)

Identifiants

Citer

Clément Lausecker, David Muñoz-Rojas, Matthieu Weber. Atomic layer deposition (ALD) of palladium: from processes to applications. Critical Reviews in Solid State and Materials Sciences, 2023, pp.1-23. ⟨10.1080/10408436.2023.2273463⟩. ⟨hal-04597144⟩
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