Atomic layer deposition (ALD) of palladium: from processes to applications

Clément Lausecker; David Muñoz-Rojas; Matthieu Weber

doi:10.1080/10408436.2023.2273463

Article Dans Une Revue Critical Reviews in Solid State and Materials Sciences Année : 2023

Atomic layer deposition (ALD) of palladium: from processes to applications

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1

Clément Lausecker

Fonction : Auteur
PersonId : 1146042
ORCID : 0000-0001-8139-4029
IdRef : 258622628

Laboratoire des matériaux et du génie physique

David Muñoz-Rojas

Fonction : Auteur
PersonId : 738331
IdHAL : david-munoz-rojas
ORCID : 0000-0003-1234-0814
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Laboratoire des matériaux et du génie physique

Matthieu Weber

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Laboratoire des matériaux et du génie physique

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Soumis le : samedi 1 juin 2024-19:19:04

Dernière modification le : lundi 1 juillet 2024-15:33:18

Dates et versions

hal-04597144 , version 1 (01-06-2024)

Identifiants

HAL Id : hal-04597144 , version 1
DOI : 10.1080/10408436.2023.2273463

Citer

Clément Lausecker, David Muñoz-Rojas, Matthieu Weber. Atomic layer deposition (ALD) of palladium: from processes to applications. Critical Reviews in Solid State and Materials Sciences, 2023, pp.1-23. ⟨10.1080/10408436.2023.2273463⟩. ⟨hal-04597144⟩

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