Plasma etching processes of a sub-10 nm resolution high-χ block copolymer self-assembled into spin-on-carbon trenches - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Plasma etching processes of a sub-10 nm resolution high-χ block copolymer self-assembled into spin-on-carbon trenches

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04594538

Soumis le : jeudi 30 mai 2024-15:17:31

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:49:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04594538 , version 1 (30-05-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04594538 , version 1

Citer

A. F. Putranto, C. Petit-Etienne, B. Cabannes-Boué, G. Fleury, G. Cunge, et al.. Plasma etching processes of a sub-10 nm resolution high-χ block copolymer self-assembled into spin-on-carbon trenches. Plasma Etch and Strip for Microtechnology workshop – PESM 2023, Jun 2023, Grenoble, France. ⟨hal-04594538⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA UGA CNRS LTM MINASEE PROSPECT RENATECH
11 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More