Plasma etching processes of a sub-10 nm resolution high-χ block copolymer self-assembled into spin-on-carbon trenches - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Plasma etching processes of a sub-10 nm resolution high-χ block copolymer self-assembled into spin-on-carbon trenches

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Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04594538

Soumis le : jeudi 30 mai 2024-15:17:31

Dernière modification le : mercredi 28 août 2024-10:47:11

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04594538 , version 1 (30-05-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04594538 , version 1

Citer

A. F. Putranto, C. Petit-Etienne, B. Cabannes-Boué, G. Fleury, G. Cunge, et al.. Plasma etching processes of a sub-10 nm resolution high-χ block copolymer self-assembled into spin-on-carbon trenches. Plasma Etch and Strip for Microtechnology workshop – PESM 2023, Jun 2023, Grenoble, France. ⟨hal-04594538⟩

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