Communication Dans Un Congrès
Année : 2023
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04511496
Soumis le : mardi 19 mars 2024-16:01:56
Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-10:56:49
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04511496 , version 1
Citer
A. F. Putranto, C. Petit-Etienne, B. Cabannes-Boué, G. Fleury, G. Cunge, et al.. Plasma etching processes of a sub-10 nm resolution high-x block copolymer self-assembled into spin-on-carbon trenches. 13th Plasma Etch and Strip in Microtechnologies workshop (PESM), Jun 2023, Grenoble, France. ⟨hal-04511496⟩
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