Plasma etching processes of a sub-10 nm resolution high-x block copolymer self-assembled into spin-on-carbon trenches - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Plasma etching processes of a sub-10 nm resolution high-x block copolymer self-assembled into spin-on-carbon trenches

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Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04511496

Soumis le : mardi 19 mars 2024-16:01:56

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:49:24

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04511496 , version 1 (19-03-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04511496 , version 1

Citer

A. F. Putranto, C. Petit-Etienne, B. Cabannes-Boué, G. Fleury, G. Cunge, et al.. Plasma etching processes of a sub-10 nm resolution high-x block copolymer self-assembled into spin-on-carbon trenches. 13th Plasma Etch and Strip in Microtechnologies workshop (PESM), Jun 2023, Grenoble, France. ⟨hal-04511496⟩

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