Communication Dans Un Congrès
Année : 2023
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04511479
Soumis le : mardi 19 mars 2024-15:58:58
Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-11:01:17
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04511479 , version 1
Citer
L. Jaloustre, S. R. Sales De Mello, S. Labau, C. Petit-Etienne, E. Pargon. Plasma etching of high aspect ratio GaN and AlN nanopillar arrays for next generation of ultraviolet lightemitting diodes fabrication. 13th Plasma Etch and Strip in Microtechnologies workshop (PESM), Jun 2023, Grenoble, France. ⟨hal-04511479⟩
9
Consultations
0
Téléchargements