Communication Dans Un Congrès
Année : 2023
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04511473
Soumis le : mardi 19 mars 2024-15:55:41
Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:56:54
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04511473 , version 1
Citer
S. R. Sales De Mello, L. Jaloustre, S. Labau, C. Petit-Etienne, G. Jacopin, et al.. Cathodoluminescence characterization of the plasma induced damage during the patterning of high aspect ratio GaN nanowires. 13th Plasma Etch and Strip in Microtechnologies workshop (PESM), Jun 2023, Grenoble, France. ⟨hal-04511473⟩
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