Plasma etching of nanopatterned GaN-based pillars for integrated μLEDs fabrication: application in μDisplays - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Plasma etching of nanopatterned GaN-based pillars for integrated μLEDs fabrication: application in μDisplays

N. Labchir
Laboratoire des technologies de la microélectronique
S. Hammami
  • Fonction : Auteur
K. Baril
  • Fonction : Auteur
S. Labau
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
C. Petit-Etienne
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
B. Alloing
  • Fonction : Auteur
M. Charles
  • Fonction : Auteur
J. Zuniga Perez
  • Fonction : Auteur
C. Gourgon
  • Fonction : Auteur

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04511400

Soumis le : mardi 19 mars 2024-15:31:33

Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-11:01:17

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04511400 , version 1 (19-03-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04511400 , version 1

Citer

N. Labchir, S. Hammami, K. Baril, S. Labau, C. Petit-Etienne, et al.. Plasma etching of nanopatterned GaN-based pillars for integrated μLEDs fabrication: application in μDisplays. 13th Plasma Etch and Strip in Microtechnologies workshop (PESM), Jun 2023, Grenoble, France. ⟨hal-04511400⟩

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