Plasma etching of nanopatterned GaN-based pillars for integrated μLEDs fabrication: application in μDisplays - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Plasma etching of nanopatterned GaN-based pillars for integrated μLEDs fabrication: application in μDisplays

S. Hammami
  • Fonction : Auteur
K. Baril
  • Fonction : Auteur
B. Alloing
  • Fonction : Auteur
M. Charles
  • Fonction : Auteur
J. Zuniga Perez
  • Fonction : Auteur
C. Gourgon
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04511400 , version 1 (19-03-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04511400 , version 1

Citer

N. Labchir, S. Hammami, K. Baril, S. Labau, C. Petit-Etienne, et al.. Plasma etching of nanopatterned GaN-based pillars for integrated μLEDs fabrication: application in μDisplays. 13th Plasma Etch and Strip in Microtechnologies workshop (PESM), Jun 2023, Grenoble, France. ⟨hal-04511400⟩
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