Poster De Conférence
Année : 2023
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04509562
Soumis le : lundi 18 mars 2024-14:50:42
Dernière modification le : lundi 16 décembre 2024-15:38:25
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04509562 , version 1
Citer
Nouhaila Rochdi, Martin Kogelschatz, Camille Petit-Etienne, Gilles Cunge. Aspect ratio impact of etched silicon wafers on ion energy distribution in plasma etching. PESM, Jun 2023, GRENOBLE, France. ⟨hal-04509562⟩
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