Plasma etching processes of a sub-10 nm resolution high-X block copolymer self-assembled into spin-on-carbon trenches - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Plasma etching processes of a sub-10 nm resolution high-X block copolymer self-assembled into spin-on-carbon trenches

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Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04509466

Soumis le : lundi 18 mars 2024-14:24:11

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:55:35

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04509466 , version 1 (18-03-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04509466 , version 1

Citer

Achmad Fajar Putranto, Camille Petit-Etienne, Benjamin Cabannes-Boué, Guillaume Fleury, Gilles Cunge, et al.. Plasma etching processes of a sub-10 nm resolution high-X block copolymer self-assembled into spin-on-carbon trenches. PESM 2023, Jun 2023, GRENOBLE, France. ⟨hal-04509466⟩

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