Communication Dans Un Congrès
Année : 2023
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04509414
Soumis le : lundi 18 mars 2024-14:09:50
Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-11:03:01
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04509414 , version 1
Citer
E Despiau-Pujo, V Martirosyan, C Petit-Etienne, F Pinzan, F Leverd, et al.. Helium and hydrogen plasmas interaction with Si3N4 and SiO2 materials for advanced etch applications: A molecular dynamics study. Plasma Etch Strip in Microtechnology (PESM), Jun 2023, GRENOBLE, France. ⟨hal-04509414⟩
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