Communication Dans Un Congrès
Année : 2023
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04509406
Soumis le : lundi 18 mars 2024-14:06:54
Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-10:59:02
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04509406 , version 1
Citer
P Ducluzaux, D Ristoiu, G Cunge, E Despiau-Pujo. Carbon resist microlens etching in DF-CCP CF4 plasmas: Comparison between modeling and experiments. 69th American Vacuum Society (AVS) International Symposium, Oct 2023, PORTLAND, United States. ⟨hal-04509406⟩
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