Carbon resist microlens etching in DF-CCP CF4 plasmas: Comparison between modeling and experiments - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Carbon resist microlens etching in DF-CCP CF4 plasmas: Comparison between modeling and experiments

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04509406

Soumis le : lundi 18 mars 2024-14:06:54

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:33:23

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04509406 , version 1 (18-03-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04509406 , version 1

Citer

P Ducluzaux, D Ristoiu, G Cunge, E Despiau-Pujo. Carbon resist microlens etching in DF-CCP CF4 plasmas: Comparison between modeling and experiments. 69th American Vacuum Society (AVS) International Symposium, Oct 2023, PORTLAND, United States. ⟨hal-04509406⟩

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