Research Update: Atmospheric pressure spatial atomic layer deposition of ZnO thin films: Reactors, doping, and devices

Robert Hoye; David Muñoz-Rojas; Shelby Nelson; Andrea Illiberi; Paul Poodt; Fred Roozeboom; Judith Macmanus-Driscoll

doi:10.1063/1.4916525

Article Dans Une Revue APL Materials Année : 2015

Research Update: Atmospheric pressure spatial atomic layer deposition of ZnO thin films: Reactors, doping, and devices

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Robert Hoye

Fonction : Auteur

David Muñoz-Rojas

Fonction : Auteur
PersonId : 738331
IdHAL : david-munoz-rojas
ORCID : 0000-0003-1234-0814
IdRef : 192780107

Laboratoire des matériaux et du génie physique

Shelby Nelson

Fonction : Auteur

Andrea Illiberi

Fonction : Auteur
PersonId : 829024

Dipartimento di Fisica

Paul Poodt

Fonction : Auteur

Fred Roozeboom

Fonction : Auteur

Judith Macmanus-Driscoll

Fonction : Auteur

Domaines

Matériaux

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02077852

Soumis le : dimanche 24 mars 2019-10:11:46

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:12

Dates et versions

hal-02077852 , version 1 (24-03-2019)

Identifiants

HAL Id : hal-02077852 , version 1
DOI : 10.1063/1.4916525

Citer

Robert Hoye, David Muñoz-Rojas, Shelby Nelson, Andrea Illiberi, Paul Poodt, et al.. Research Update: Atmospheric pressure spatial atomic layer deposition of ZnO thin films: Reactors, doping, and devices. APL Materials, 2015, 3 (4), pp.040701. ⟨10.1063/1.4916525⟩. ⟨hal-02077852⟩

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