ASD process using ALD, etching (plasma or ALE) and surface passivation - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2018

ASD process using ALD, etching (plasma or ALE) and surface passivation

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01960479

Soumis le : mercredi 19 décembre 2018-14:16:41

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:19

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01960479 , version 1 (19-12-2018)

Licence

Paternité

Identifiants

  • HAL Id : hal-01960479 , version 1

Citer

C. Vallee, R. Vallat, R. Gassilloud, V. Pesce, N. Posseme, et al.. ASD process using ALD, etching (plasma or ALE) and surface passivation. ASD18 – 3rd area selective deposition workshop, Apr 2018, Raleigh, United States. ⟨hal-01960479⟩

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