Poster De Conférence
Année : 2018
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01954878
Soumis le : vendredi 14 décembre 2018-08:45:36
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:40:03
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01954878 , version 1
Citer
P. Bézard, X. Chevalier, C. Navarro, C. Nicolet, G. Fleury, et al.. Dry etching challenges for high- block copolymers. European Mask and Lithography Conference - EMLC 2018, Jun 2018, Grenoble, France. ⟨hal-01954878⟩
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