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Communication dans un congrès

Plasma solutions for atomic-precision etching: From molecular dynamics simulations to experiments

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01942798
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : lundi 3 décembre 2018 - 14:35:35
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:03:29

Identifiants

  • HAL Id : hal-01942798, version 1

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Citation

E. Despiau-Pujo, P. Brichon, V. Martirosyan, J. Dubois, G. Cunge, et al.. Plasma solutions for atomic-precision etching: From molecular dynamics simulations to experiments. 40th International Symposium on Dry Process (DPS 2018), Nov 2018, Nagoya, Japan. ⟨hal-01942798⟩

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