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Communication Dans Un Congrès Année : 2018

Plasma solutions for atomic-precision etching: From molecular dynamics simulations to experiments

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01942798

Soumis le : lundi 3 décembre 2018-14:35:35

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:42:06

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01942798 , version 1 (03-12-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01942798 , version 1

Citer

E. Despiau-Pujo, P. Brichon, V. Martirosyan, J. Dubois, G. Cunge, et al.. Plasma solutions for atomic-precision etching: From molecular dynamics simulations to experiments. 40th International Symposium on Dry Process (DPS 2018), Nov 2018, Nagoya, Japan. ⟨hal-01942798⟩

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