Communication Dans Un Congrès
Année : 2017
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01929202
Soumis le : mercredi 21 novembre 2018-09:30:48
Dernière modification le : lundi 12 février 2024-15:23:08
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01929202 , version 1
Citer
V. Martirosyan, E. Despiau-Pujo, O. Joubert. Atomistic Simulations of H2 Plasma Modification of SiN Thin-Films for Advanced Etch Processes. AVS 64th International Symposium, Tampa (USA), Oct 29-Nov 3, 2017, Oct 2017, tampa, United States. ⟨hal-01929202⟩
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