Method of etching using a multi layer structure - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Brevet Année : 2010

Method of etching using a multi layer structure

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01906106 , version 1 (26-10-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01906106 , version 1

Citer

O. Joubert, T. Chevolleau, G. Cunge. Method of etching using a multi layer structure. United States, Patent n° : WIPO Patent Application WO/2010/029138. 2010. ⟨hal-01906106⟩
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