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Brevet

Procédé optimisé de fabrication de motifs de matériau semi-conducteur III-V sur un substrat semi-conducteur.

Type de document :
Brevet
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01905089
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 25 octobre 2018 - 15:31:06
Dernière modification le : vendredi 17 juillet 2020 - 09:10:08

Identifiants

  • HAL Id : hal-01905089, version 1

Collections

Citation

T. Baron, F. Bassani. Procédé optimisé de fabrication de motifs de matériau semi-conducteur III-V sur un substrat semi-conducteur.. France, Patent n° : Brevet FRA 1358813. 2013. ⟨hal-01905089⟩

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