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Brevet

External UV light source to minimize the Asymetric resist pattern trimming rates induced by plasma UV light

Type de document :
Brevet
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01905080
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 25 octobre 2018 - 15:28:51
Dernière modification le : vendredi 17 juillet 2020 - 09:10:08

Identifiants

  • HAL Id : hal-01905080, version 1

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Citation

O Luere, O Joubert. External UV light source to minimize the Asymetric resist pattern trimming rates induced by plasma UV light. United States, Patent n° : US Patent Application No. 13/892,039. 2013. ⟨hal-01905080⟩

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