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Communication Dans Un Congrès Année : 2017

Atomic-scale simulations of low-damage plasma etching processes

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01891290

Soumis le : mardi 9 octobre 2018-14:26:39

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:34:10

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01891290 , version 1 (09-10-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01891290 , version 1

Citer

E. Despiau-Pujo, P. Brichon, V. Martirosyan, J. Dubois, G. Cunge, et al.. Atomic-scale simulations of low-damage plasma etching processes. 82nd IUVSTA Workshop on Plasma-based Atomic Layer Processes, Dec 2017, Okinawa, Japan. ⟨hal-01891290⟩

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