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Communication dans un congrès

Atomic-scale simulations of low-damage plasma etching processes

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01891290
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mardi 9 octobre 2018 - 14:26:39
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:03:19

Identifiants

  • HAL Id : hal-01891290, version 1

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Citation

E. Despiau-Pujo, P. Brichon, V. Martirosyan, J. Dubois, G. Cunge, et al.. Atomic-scale simulations of low-damage plasma etching processes. 82nd IUVSTA Workshop on Plasma-based Atomic Layer Processes, Dec 2017, Okinawa, Japan. ⟨hal-01891290⟩

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