Communication Dans Un Congrès
Année : 2016
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882933
Soumis le : jeudi 27 septembre 2018-15:16:05
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-18:24:17
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01882933 , version 1
Citer
V. Martirosyan, E. Despiau-Pujo, O. Joubert. Atomistic simulations of He plasma modification of Si thin-films for advanced etch processes. Plasma Etch Strip in Microtechnology (PESM), May 2016, grenoble, France. ⟨hal-01882933⟩
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