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Communication dans un congrès

Atomistic simulations of He plasma modification of Si thin-films for advanced etch processes

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882933
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 27 septembre 2018 - 15:16:05
Dernière modification le : mardi 6 octobre 2020 - 16:30:05

Identifiants

  • HAL Id : hal-01882933, version 1

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Citation

V. Martirosyan, E. Despiau-Pujo, O. Joubert. Atomistic simulations of He plasma modification of Si thin-films for advanced etch processes. Plasma Etch Strip in Microtechnology (PESM), May 2016, grenoble, France. ⟨hal-01882933⟩

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