Communication Dans Un Congrès
Année : 2016
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882917
Soumis le : jeudi 27 septembre 2018-15:10:33
Dernière modification le : lundi 12 février 2024-15:22:39
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01882917 , version 1
Citer
E. Despiau-Pujo, V. Martirosyan, O. Joubert. Alternative solutions for nm-precision etching: H2 Plasmas Modification of Si/ SiN thin-films. AVS 63nd International Symposium, Nov 2016, Nashville, United States. ⟨hal-01882917⟩
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