Plasma Enhanced CVD processes: Dual Frequency with pulsing of liquid precursors and PEALD for Selective Deposition - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2016

Plasma Enhanced CVD processes: Dual Frequency with pulsing of liquid precursors and PEALD for Selective Deposition

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882763

Soumis le : jeudi 27 septembre 2018-13:27:42

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:01:09

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01882763 , version 1 (27-09-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01882763 , version 1

Citer

Corentin Vallée, R. Gassilloud, R. Vallat, F. Piallat, A. Aoukar, et al.. Plasma Enhanced CVD processes: Dual Frequency with pulsing of liquid precursors and PEALD for Selective Deposition. AVS 2016, 2016, Nashville (USA), United States. ⟨hal-01882763⟩

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