Improvement of Electron Beam Lithography modeling for overdose exposures by using Dill transformation - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2016

Improvement of Electron Beam Lithography modeling for overdose exposures by using Dill transformation

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Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882467

Soumis le : jeudi 27 septembre 2018-09:31:53

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:41:56

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Dates et versions

hal-01882467 , version 1 (27-09-2018)

Identifiants

Citer

Mohamed Abaidi, Mohamed Saib, Jean-Hervé Tortai, Patrick Schiavone. Improvement of Electron Beam Lithography modeling for overdose exposures by using Dill transformation. SPIE Photomask Technology, 2016, San Jose, United States. ⟨10.1117/12.2240928⟩. ⟨hal-01882467⟩

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