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Communication Dans Un Congrès Année : 2015

Towards nanoscale plasma etching precision: MD simulations of Si-Cl interactions

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01878118

Soumis le : jeudi 20 septembre 2018-16:34:03

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:20:45

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01878118 , version 1 (20-09-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01878118 , version 1

Citer

P. Brichon, E. Despiau-Pujo, O. Mourey, G. Cunge, O. Joubert. Towards nanoscale plasma etching precision: MD simulations of Si-Cl interactions. AVS 62nd International Symposium, Oct 2015, San José, United States. ⟨hal-01878118⟩

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