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Communication dans un congrès

Towards nanoscale plasma etching precision: MD simulations of Si-Cl interactions

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01878118
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 20 septembre 2018 - 16:34:03
Dernière modification le : vendredi 17 juillet 2020 - 09:10:08

Identifiants

  • HAL Id : hal-01878118, version 1

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Citation

P. Brichon, E. Despiau-Pujo, O. Mourey, G. Cunge, O. Joubert. Towards nanoscale plasma etching precision: MD simulations of Si-Cl interactions. AVS 62nd International Symposium, Oct 2015, San José, United States. ⟨hal-01878118⟩

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