Measuring IVDF through high−aspect holes in ICP plasmas - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2015
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01878112 , version 1 (20-09-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01878112 , version 1

Citer

G. Cunge., M. Darnon., J Dubois., P Bezard., O Mourey., et al.. Measuring IVDF through high−aspect holes in ICP plasmas. PESM 2015 (Plasma Etch and Strip in Microtechnology), 2015, Louvain, Belgium. ⟨hal-01878112⟩
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