Article Dans Une Revue
Journal of Physics D: Applied Physics
Année : 2015
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01878054
Soumis le : jeudi 20 septembre 2018-15:51:35
Dernière modification le : lundi 12 février 2024-15:18:56
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01878054 , version 1
Citer
P. Brichon, E. Despiau-Pujo, O. Mourey, O. Joubert. Key plasma parameters for nanometric precision etching of Si films in chlorine discharges. Journal of Physics D: Applied Physics, 2015, pp.118, 053303. ⟨hal-01878054⟩
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