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Key plasma parameters for nanometric precision etching of Si films in chlorine discharges

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Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01878054
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 20 septembre 2018 - 15:51:35
Dernière modification le : vendredi 17 juillet 2020 - 09:10:08

Identifiants

  • HAL Id : hal-01878054, version 1

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Citation

P. Brichon, E. Despiau-Pujo, O. Mourey, O. Joubert. Key plasma parameters for nanometric precision etching of Si films in chlorine discharges. J. Phys. D: Appl. Phys, 2015, pp.118, 053303. ⟨hal-01878054⟩

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