M. Haass, M. Darnon, G. Cunge, D. Gahan, and O. Joubert, J. Vac. Sci. Technol. B, vol.33, p.32202, 2015.

C. Petit-etienne, M. Darnon, L. Vallier, E. Pargon, G. Cunge et al., J. Vac. Sci. Technol., B, vol.28, p.926, 2010.

C. Petit-etienne, E. Pargon, S. David, M. Darnon, L. Vallier et al., J. Vac. Sci. Technol., B, vol.30, p.40604, 2012.

C. Petit-etienne, M. Darnon, P. Bodart, M. Fouchier, G. Cunge et al., J. Vac. Sci. Technol., B, vol.31, p.11201, 2013.

T. D. Bestwick and G. S. Oehrlein, J. Vac. Sci. Technol., A, vol.8, p.1696, 1990.

V. M. Donnelly, F. P. Klemens, T. W. Sorsch, G. L. Timp, and F. H. Baumann, Appl. Phys. Lett, vol.74, p.1260, 1999.

M. Fukasawa, Y. Nakakubo, A. Matsuda, Y. Takao, K. Eriguchi et al., J. Vac. Sci. Technol., A, vol.29, p.41301, 2011.

T. Ito, K. Karahashi, S. Kang, and S. Hamaguchi, J. Phys. Conf. Ser, vol.232, p.12021, 2010.

S. Kuroda and H. Iwakuro, J. Vac. Sci. Technol., B, vol.16, p.1846, 1998.

K. Miwa and T. Mukai, J. Vac. Sci. Technol., B, vol.20, p.2120, 2002.

M. Nakamura, K. Koshino, and J. Matsuo, Jpn. J. Appl. Phys, vol.31, p.1999, 1992.

K. Ono, H. Ohta, and K. Eriguchi, Thin Solid Films, vol.518, p.3461, 2010.

S. A. Vitale, H. Chae, and H. H. Sawin, J. Vac. Sci. Technol., A, vol.19, p.2197, 2001.

J. W. Coburn, Thin Solid Films, vol.64, p.371, 1979.

K. Koshino, J. Matsuo, and M. Nakamura, Jpn. J. Appl. Phys, vol.32, p.3063, 1993.

S. Banna, IEEE Trans. Plasma Sci, vol.37, p.1730, 2009.

P. Bodart, M. Brihoum, G. Cunge, O. Joubert, and N. Sadeghi, J. Appl. Phys, vol.110, p.113302, 2011.

M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Materials Processing, 1994.

J. Schulze, E. Sch?, and U. Czarnetzki, Appl. Phys. Lett, vol.100, p.24102, 2012.

V. M. Donnelly and N. Layadi, J. Vac. Sci. Technol., B, vol.16, p.1571, 1998.

P. Sigmund, Phys. Rev, vol.184, p.383, 1969.

W. D. Wilson, L. G. Haggmark, and J. P. Biersack, Phys. Rev. B, vol.15, p.2458, 1977.

P. C. Zalm, J. Appl. Phys, vol.54, p.2660, 1983.

H. F. Winters and E. Taglauer, Phys. Rev. B, vol.35, p.2174, 1987.

C. Steinbr?, Appl. Phys. Lett, vol.55, p.1960, 1989.

M. E. Barone and D. B. Graves, J. Appl. Phys, vol.78, p.6604, 1995.

N. Layadi, V. M. Donnelly, J. T. Lee, and F. P. Klemens, J. Vac. Sci. Technol., A, vol.15, p.604, 1997.

V. M. Donnelly and A. Kornblit, J. Vac. Sci. Technol., A, vol.31, p.50825, 2013.

G. S. Oehrlein, J. F. Rembetski, and E. H. Payne, J. Vac. Sci. Technol., B, vol.8, p.1199, 1990.

G. S. Oehrlein and Y. Kurogi, Mater. Sci. Eng., R, vol.24, p.153, 1998.

L. Desvoivres, L. Vallier, and O. Joubert, J. Vac. Sci. Technol., B, vol.19, p.420, 2001.

J. M. Lane, K. H. Bogart, F. P. Klemens, and J. T. Lee, J. Vac. Sci. Technol., A, vol.18, p.2067, 2000.

T. J. Dalton, J. C. Arnold, H. H. Sawin, S. Swan, and D. Corliss, J. Electrochem. Soc, vol.140, p.2395, 1993.

M. A. Vyvoda, M. Li, D. B. Graves, H. Lee, M. V. Malyshev et al., J. Vac. Sci. Technol., B, vol.18, p.820, 2000.

K. P. Giapis and G. S. Hwang, Thin Solid Films, vol.374, p.175, 2000.

A. P. Mahorowala and H. H. Sawin, J. Vac. Sci. Technol., B, vol.20, p.1077, 2002.

S. Samukawa and K. Terada, J. Vac. Sci. Technol., B, vol.12, p.3300, 1994.

S. Samukawa and T. Mieno, Plasma Sources Sci. Technol, vol.5, p.132, 1996.

T. H. Ahn, K. Nakamura, and H. Sugai, Plasma Sources Sci. Technol, vol.5, p.139, 1996.

G. S. Hwang and K. P. Giapis, Jpn. J. Appl. Phys, vol.37, p.2291, 1998.

J. Kim, C. Kang, T. Ahn, and J. Moon, Thin Solid Films, vol.345, p.124, 1999.

S. Samukawa, K. Noguchi, J. I. Colonell, K. H. Bogart, M. V. Malyshev et al., J. Vac. Sci. Technol., B, vol.18, p.834, 2000.

K. P. Giapis, G. S. Hwang, and O. Joubert, Microelectron. Eng, vol.61, p.835, 2002.

M. Haass, M. Darnon, and O. Joubert, J. Appl. Phys, vol.111, p.124905, 2012.

H. Ubner, J. Electrochem. Soc, vol.139, p.3302, 1992.

G. Cunge, R. L. Inglebert, O. Joubert, L. Vallier, and N. Sadeghi, J. Vac. Sci. Technol., B, vol.20, p.2137, 2002.

X. Detter, R. Palla, I. Thomas-boutherin, E. Pargon, G. Cunge et al., J. Vac. Sci. Technol., B, vol.21, p.2174, 2003.

G. Cunge, M. Kogelschatz, O. Joubert, and N. Sadeghi, Plasma Sources Sci. Technol, vol.14, p.42, 2005.