T. Ahn, K. Nakamura, and H. Sugai, Plasma Sources Sci. Technol, vol.5, p.139, 1996.

G. S. Hwang and K. P. Giapis, Jpn. J. Appl. Phys, vol.37, p.2291, 1998.

J. Kim, C. Kang, T. Ahn, and J. Moon, Thin Solid Films, vol.345, p.124, 1999.

S. Samukawa and K. Terada, J. Vac. Sci. Technol., B, vol.12, p.3300, 1994.

S. Samukawa, K. Noguchi, J. I. Colonell, K. H. Bogart, and M. ,

V. M. Malyshev and . Donnelly, J. Vac. Sci. Technol., B, vol.18, p.834, 2000.

S. Samukawa and T. Mieno, Plasma Sources Sci. Technol, vol.5, p.132, 1996.

C. Petit-etienne, M. Darnon, L. Vallier, E. Pargon, G. Cunge et al., J. Vac. Sci. Technol., B, vol.28, p.926, 2010.

C. Petit-etienne, E. Pargon, S. David, M. Darnon, L. Vallier et al., J. Vac. Sci. Technol., B, vol.30, p.40604, 2012.

S. A. Voronin, M. R. Alexander, and J. W. Bradley, Meas. Sci. Technol, vol.16, p.2446, 2005.

H. Ohtake, K. Noguchi, S. Samukawa, H. Iida, A. Sato et al., J. Vac. Sci. Technol., B, vol.18, p.2495, 2000.

S. Samukawa, Y. Ishikawa, S. Kumagai, and M. Okigawa, Jpn. J. Appl. Phys, vol.40, p.1346, 2001.

M. Okigawa, Y. Ishikawa, and S. Samukawa, Jpn. J. Appl. Phys, vol.42, p.2444, 2003.

P. Subramonium and M. J. Kushner, J. Appl. Phys, vol.96, p.82, 2004.

G. Cunge, D. Vempaire, and N. Sadeghi, Appl. Phys. Lett, vol.96, p.131501, 2010.

R. W. Boswell and D. Henry, Appl. Phys. Lett, vol.47, p.1095, 1985.

N. J. St, J. P. Braithwaite, G. Booth, and . Cunge, Plasma Sources Sci. Technol, vol.5, p.677, 1996.

J. P. Booth, N. J. St, A. Braithwaite, P. Goodyear, and . Barroy, Rev. Sci. Instrum, vol.71, p.2722, 2000.

D. Gahan, B. Dolinaj, and M. B. Hopkins, Rev. Sci. Instrum, vol.79, p.33502, 2008.

D. Gahan, S. Daniels, C. Hayden, D. O'sullivan, and M. B. Hopkins, Plasma Sources Sci. Technol, vol.21, p.15002, 2012.

M. Haass, M. Darnon, G. Cunge, and O. Joubert, J. Vac. Sci. Technol., B, vol.33, p.32203, 2015.

E. Pargon, O. Joubert, T. Chevolleau, G. Cunge, S. Xu et al., J. Vac. Sci. Technol., B, vol.23, p.103, 2005.

G. Cunge, R. L. Inglebert, O. Joubert, L. Vallier, and N. Sadeghi, J. Vac. Sci. Technol., B, vol.20, p.2137, 2002.

P. Bodart, M. Brihoum, G. Cunge, O. Joubert, and N. Sadeghi, J. Appl. Phys, vol.110, p.113302, 2011.

S. Banna, IEEE Trans. Plasma Sci, vol.37, p.1730, 2009.

M. Darnon, G. Cunge, N. J. St, and . Braithwaite, Plasma Sources Sci. Technol, vol.23, p.25002, 2014.

M. Brihoum, G. Cunge, M. Darnon, D. Gahan, O. Joubert et al., J. Vac. Sci. Technol., A, vol.31, p.20604, 2013.

G. Cunge, M. Kogelschatz, and N. Sadeghi, Plasma Sources Sci. Technol, vol.13, p.522, 2004.

G. Cunge, M. Kogelschatz, O. Joubert, and N. Sadeghi, Plasma Sources Sci. Technol, vol.14, p.42, 2005.

G. Cunge, N. Sadeghi, and R. Ramos, J. Appl. Phys, vol.102, p.93305, 2007.

G. Cunge, D. Vempaire, R. Ramos, M. Touzeau, O. Joubert et al., Plasma Sources Sci. Technol, vol.19, p.34017, 2010.

M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Materials Processing, 1994.

C. Ohm and J. Perrin, Rev. Sci. Instrum, vol.64, p.31, 1993.