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Brevet

Atomic precision etching by dynamic control of the reactive layer thickness in reactive plasmas

Type de document :
Brevet
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01877345
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mercredi 19 septembre 2018 - 16:05:50
Dernière modification le : vendredi 17 juillet 2020 - 09:10:08

Identifiants

  • HAL Id : hal-01877345, version 1

Collections

Citation

O Joubert, G Cunge, E Despiau-Pujo, E Pargon, N Posseme. Atomic precision etching by dynamic control of the reactive layer thickness in reactive plasmas. United States, Patent n° : US 2015/0228495 A1. 2015. ⟨hal-01877345⟩

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